ALIGNMENT MEASUREMENT SERIES
Na-80 双面对准度测量仪
非接触式机器视觉检测，实现亚微米级重复精度的晶圆正反面对位方案。
Na-80 双面对准度测量仪
Double-Sided Alignment Measurement System
半导体 / 测量与对准
产品设计综述 (OVERVIEW)
Na-80 是由安徽纳准半导体研发的专业级双面位置对准测量仪。该设备特别针对半导体先进制程中的晶圆正反面对位需求设计，采用非接触式机器视觉技术，确保在不产生任何物理损伤的前提下，提供亚微米级别的测量精度。
亚微米精度
重复精度达到 ±0.2μm (1σ)，满足严苛的量测要求。
一键全自动
识别待测图案后，一键完成所有测量步骤，操作便捷高效。
300mm 兼容
最大支持 12 英寸 (300mm) 晶圆，并向下兼容 8 英寸及更小尺寸。
非接触测量
完全依靠图像识别，对透明及不透明材料均有良好的检测适配性。
核心技术优势
- 先进机构：采用比较测量方式，有效规避光路和机械错位带来的系统误差。
- 智能校准：专属一键式校准方案，自动消除放大倍率误差，确保数据一致性。
- 灵活配置：上下双光路显微系统，支持 5×, 10×, 20× 等多种倍率物镜可选。
- 软件合成：支持表面与背面图像的合成显示，直观呈现对位结果。
技术参数 (Na-80 Spec)
| 样品尺寸 | 8"/12" (向下兼容) |
| 样品厚度 | ≤ 10 mm |
| 测量精度 | ±0.2 μm (重复性) |
| 光学倍率 | 5× / 10× / 20× (可选) |
| 调焦方式 | 电动 / 自动聚焦 (可选) |
| XY 平台行程 | X: 150mm / Y: 20mm (电动) |
| 数据记录 | 图像及结果自动存储 |
测量原理与应用示例
应用领域
广泛应用于 BAW 体声波滤波器、MLA 微透镜阵列、MEMS 微机电系统以及 WLO 晶圆级光学等精密对位场景。
系统架构
机架式紧凑结构设计，仅需单个工位即可完成全流程检测，大幅节省无尘室空间。